2024年6月28日,艾森股份发表招待调研公告,公司于6月26日招待中信证券、理成财物、睿华本钱、安全证券、我们财物等15家组织调研。
公告显现,艾森股份参加本次招待的人员共2人,为常务副总经理、董事会秘书陈小华,证券事务代表徐雯。调研招待地址为公司会议室及线上。
据了解,艾森股份公司在产品使用战略上构成了“一主两翼”的事务开展格式,其间“一主”是半导体电镀光刻,包含先进封装和晶圆制作范畴,“两翼”是半导体显现、光伏新能源范畴。公司聚集主营事务,环绕电子电镀、光刻两个半导体制作及封装过程中的要害工艺环节,继续夯实传统封装国内龙头位置,并在先进封装以及晶圆28nm、14nm先进制程获得打破。
在先进封装负性光刻胶的技能难点方面,艾森股份公司自产的光刻胶用来制作Bumping铜凸块,其分辨率到达20μm即可满意规则的要求。但由于其开口深度远高于一般图形结构,要求光刻胶的涂布厚度到达50-110μm,是一般光刻胶涂布厚度的50-100倍。此外,该款光刻胶还需要耐受电镀,配方复杂度高,重要原材料树脂被国外光刻胶企业独家独占供给来历,无外购途径,由公司自行组成。
总的来说,艾森股份公司在半导体电镀光刻范畴具有中心技能优势,通过继续创新和打破,构成了共同的产品使用战略和事务开展格式。一起,公司在先进封装负性光刻胶的技能难点上也获得了重要开展,为半导体制作及封装职业的开展做出了活跃奉献。
答复:随公司产品使用的开展和延伸,公司逐渐构成“一主两翼”的事务开展格式,“一主”是半导体电镀光刻,包含先进封装和晶圆制作范畴,“两翼”是半导体显现、光伏新能源范畴。公司聚集主营事务,环绕电子电镀、光刻两个半导体制作及封装过程中的要害工艺环节。在电镀液及配套试剂方面,公司在继续夯实传统封装国内龙头位置的基础上,逐渐在先进封装以及晶圆28nm、14nm先进制程获得打破,在光刻胶及配套试剂方面,公司也是聚集于特征工艺光刻胶。
答复:公司自产的先进封装用负性光刻胶用来制作Bumping铜凸块,铜凸块宽度一般为20μm,因而该款光刻胶的分辨率到达20μm即可满意规则的要求。但由于其开口深度远高于一般图形结构,要求光刻胶的涂布厚度到达50-110μm,是一般光刻胶涂布厚度的50-100倍,因而该款光刻胶关于涂布厚度、与基材结合力的要求高于一般光刻胶。此外,光刻胶显影后构成的开口通过电镀铜、电镀镍和电镀锡银(其间电镀铜用量最大)工艺完结铜凸块制作,因而该款光刻胶还需要耐受电镀。该款光刻胶的配方复杂度高,重要原材料树脂被国外光刻胶企业独家独占供给来历,无外购途径,由公司自行组成。
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