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济南晶恒电子请求电子元器件用接连高速镀锡专利进步出产接连性和功率

时间: 2025-01-14 21:53:05 作者: 砂处理系列
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  金融界2024年12月17日音讯,国家知识产权局信息数据显现,济南晶恒电子有限责任公司请求一项名为“电子元器件用接连高速镀锡工艺”的专利,公开号CN 119121336 A,请求日期为2024年9月。

  专利摘要显现,本请求归于电子元器件出产领域,特别触及一种电子元器件用接连高速镀锡工艺。未处理现存技能中电镀纯锡工艺出产接连性差,功率低,镀锡层质量不稳定,镀锡层存储进程简单变色,抗氧化才能差,镀锡层简单长锡须等问题,本请求供给一种电子元器件用接连高速镀锡工艺,本请求供给的工艺,经过自动上料、电解软化、高压水刀、去氧化、预浸、电镀纯锡、去离子热水洗、中和、锡维护、风刀吹干、烘干、下料、钢带电摆脱锡、二次烘干的工艺流程,进步了出产接连性和出产功率,确保了锡层的质量和抗氧化才能,有用阻挠了锡须的成长。

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